抛光剂是一类用于改善材料表面光洁度、去除表面缺陷（如划痕、氧化层、毛刺）并提升外观质感的化学或物理作用型产品，广泛应用于金属、石材、木材、塑料、玻璃等多种材质的表面处理领域。

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其核心功能是通过“研磨 - 细化 - 光亮” 的递进过程，实现表面平整化与光泽化，同时部分抛光剂还具备一定的表面保护作用。
抛光剂的工作过程本质是 “机械研磨” 与 “化学作用” 的结合（不同类型抛光剂侧重不同），通常分为三个阶段，形成递进式表面优化：
粗抛阶段（研磨去除）：通过抛光剂中的研磨颗粒（如氧化铝、碳化硅、金刚石微粉等），对材料表面的宏观缺陷（如深度划痕、氧化皮、加工纹路）进行物理切削，将表面不平整度降低到微米级甚至纳米级。
中抛阶段（细化平整）：随着研磨颗粒逐渐磨损变细，或抛光剂中颗粒粒径减小，切削力减弱，主要作用是消除粗抛留下的细微研磨痕迹，使表面趋于平整、均匀。
精抛阶段（光亮提升）：
物理层面：极细的研磨颗粒（如二氧化硅、氧化铈）进一步细化表面纹理，让光线反射更均匀，形成基础光泽；
化学层面：部分抛光剂（如金属化学抛光剂）通过弱酸性 / 弱碱性成分与材料表面发生轻微化学反应，溶解表面微观凸起，同时形成一层极薄的光亮保护膜（如金属钝化膜），提升光泽度与耐腐蚀性。