抛光剂薄膜的要素如下：
涂附主要采用静电法和滚涂法。静电法时结合剂为苯酚．基材为聚脂薄膜．磨料为A12O3、SiC。滚涂法主要是借助印刷技术，磨料与粘结剂混合滚涂，涂附厚度由滚筒控制，即调节辊子的闻隙来调整。另外还有混炼法、烧结法、电镀法、镀Ni法。
抛光剂结合剂是采用高分子树脂和数十种化合物添加助剂。常用的有丙烯、环氧、胺基甲酸乙脂。前两种种比较硬，后一种较软。一般要求在薄膜上进行两次涂附，第一次涂附是增加薄膜的附着力。
抛光剂磨料在日本主要使用Al2O3、SiC，还有Cr2O3、CeO2、人造金刚石单晶、FeO、多晶等。抛光剂磨料细度要细腻且要分布均匀，这就要求严格控制粒度分布，不能有大粒。精密研磨产生有四种抛光剂磨粒：Al2O3、人造盒刚石、SiC、CBN。所有抛光剂磨粒均经精细筛选，使用时不会有粗糙花纹，其产品具有防水性能，干式或湿式均可。
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