抛光液具有金属杂质沾污极少、易清洗、抛光速率高、损伤层小、平整度高等特点。在抛光中根据需要可以优化不同配比，抛光液均能达到最佳使用效果。抛光液该产品具有浓缩度高、磨料粒径小、表面张力小、对有机物、金属离子及颗粒容易清洗、抛光速率高（0.8～1.5μm/min）、高温不出现非均化蚀坑等优点。
   抛光液主要用于多重扩散硅片的高质量抛光，也可用于原始锗、石英、二氧化硅、蓝宝石等材料的抛光工艺，还可用于扩散片的抛光。
   抛光液的运输及保存：1、运输与存放温度为5℃～50℃，存放时应避光，以避免浆料变质。2、保质期一年，建议半年内使用。3、避免金属、颗粒污染，避免强电解质的接触。