抛光液的用途：用于蓝宝石晶片，砷化镓片，玻璃硬盘, 单晶硅片及半导体化合物晶片等表面抛光。特性：考虑到晶体抛光的需要，抛光液特别设计了一套制造40-60纳米左右-坚实，圆形，颗粒分布均匀的高稳定二氧化硅溶胶工艺，并配制有改善晶体表面质量的特种试剂，故能得到很高的抛光质量和较高的抛光速度。1、抛光液适用于各种加工方式，抛光液具有抛光效率高、使用寿命长的特点。2、抛光液光洁度高，悬浮性强，易清洗。3、建议与去离子水的稀释比例为1至15倍，最终抛光浓度客户根据产品需要决定。