硅片去除研磨损伤深度的抛光工艺所用液体材料称抛光液。常见的有二氧化硅抛光液及三氧化铬抛光液。
　　
　　　抛光液是由多种化工溶液配制而成的溶液，它在抛光工艺中有重要的地位，合理选择抛光液，能使加工出来的工件表面光亮美观，色泽鲜艳，光亮夺目，还可以防止工件的锈蚀，保持与提高工件表面的光泽，起到清洁工件与磨具的作用。去除油污，软化工件表面以加速磨消，减少磨具对工件的冲击，改善工件条件。它具有无毒，无腐蚀，不易变质等性能。
　　　机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：

　　（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。

　　（2）抛光表面反应物脱离硅单晶表面，即解吸过程使未反应的硅单晶重新裸露出来的动力学过程。它是控制抛光速率的另一个重要过程。
　
　　硅片的化学机械抛光过程是以化学反应为主的机械抛光过程，要获得质量好的抛光片，必须使抛光过程中的化学腐蚀作用与机械磨削作用达到一种平衡。如果化学腐蚀作用大于机械抛光作用，则抛光片表面产生腐蚀坑、桔皮状波纹。如果机械磨削作用大于化学腐蚀作用，则表面产生高损伤层。

　　抛光液的种类很多，应根据加工条件来选择。在光整效率，工作的研磨质量，抛光的光洁度等方面。抛光液都显示出其独特的效果。

　　 抛光液按抛光的材质不同分为：BD-H001型低碳钢常温化学抛光液 BD-H201型铝件化学抛光液 BD-H302型不锈钢化学抛光液
BD-H001型低碳钢常温化学抛光液：

　　 BD-H001型低碳钢常温化学抛光液对低碳钢工件有良好的抛光效果，最佳效果能达到镜面光亮，外观可与装饰铬媲美。使用本品抛光，可提高工效，还可缩短镀镍时间。
　　 BD-H201型铝件化学抛光液是专门为提高铝制品表面光洁度而设计的一种化学抛光液，铝制品经过本品抛光后，可达到镜面亮度，可作为铝制品成品装饰用，也可作为铝制品表面处理过程中的中间工序使用。本品为淡蓝色透明状液体。

　　 BD-H302型不锈钢化学抛光液不受零件形状、体积限制，可以改变不锈钢制品机械损伤层和应力层，提高机械强度，效率高，表面精饰效果好。
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